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네덜란드 반도체 장비 제조업체 ASML의 최첨단 하이-NA EUV 스캐너가 뉴욕주 몬로 파크에 위치한 아르곤 국립 연구소의 새로운 시설에 도착했습니다. 이 장비는 2 나노미터(nm) 및 그 이하의 차세대 칩 생산을 가능하게 하는 핵심 기술입니다. 약 5천억 원 이상을 호가하는 이 스캐너는 미국 반도체 제조 능력 강화에 중요한 역할을 할 것으로 기대됩니다. 미국 정부는 자국 내 반도체 생산 능력 확대를 위해 수십억 달러의 투자를 진행하고 있으며, 이번 장비 도입은 이러한 노력의 일환입니다. 이는 첨단 반도체 기술 경쟁에서 미국의 입지를 강화하는 중요한 발전으로 평가됩니다.

원문 (English)

Advanced chipmaking tool arrives at New York state innovation hub