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중국이 기존의 심자외선(DUV) 리소그래피 기술만으로도 첨단 반도체 칩을 생산할 수 있다는 보도가 나왔습니다. 이는 네덜란드 ASML의 최첨단 극자외선(EUV) 장비 없이도 7나노미터(nm) 공정이 가능하다는 것을 의미하며, 미국 등의 수출 통제를 우회할 수 있는 잠재력을 보여줍니다. 이러한 소식은 즉각적으로 ASML의 주가 하락을 초래했으며, 미국 반도체 관련 기업들의 주가 역시 부정적인 영향을 받았습니다. 이는 중국 반도체 산업의 자립 가능성과 지정학적 긴장 속에서의 기술 경쟁 심화를 시사하는 중요한 사건입니다.

원문 (English)

ASML and U.S. chip stocks sink on report of China’s DUV breakthrough